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내일신문

일본 규제확대, 삼성 반도체 견제용

핵심 극자외선공정 직격탄

등록 : 2019-07-11 12:36:35

일본 수출규제가 삼성전자의 시스템반도체 세계1위 도전에 먹구름을 드리울 수 있다는 우려가 나오고 있다.

삼성전자는 4월 시스템반도체 세계 1위를 달성하기 위해 2030년까지 총 133조원을 투자하는 ‘삼성 반도체 비전 2030’을 발표했다. 이 계획 핵심은 화성 반도체라인에 극자외선(EUV) 기술공정을 도입해 시스템반도체를 생산하는 것이다. 문제는 일본이 수출규제 품목으로 확정한 EUV용 포토리지스트(PR)와 블랭크마스크가 삼성이 도입하는 EUV라인에 필수적인 제품이라는 점이다.

11일 업계에 따르면 일본이 추가로 규제할 가능성이 높은 반도체 관련 품목은 집적회로(IC), 전력반도체(PMIC), 리소그래피 장비, 이온주입기, 웨이퍼, 블랭크마스크 등이다. 이중 웨이퍼와 블랭크마스크는 일본 업체의 시장 점유율이 매우 높은 것으로 알려져 있다. 특히 블랭크마스크는 노광 공정에 사용되는 포토마스크의 원재료로, 반도체 공정이 미세화되면서 중요성이 더욱 커지고 있다.

삼성전자가 주력하고 있는 EUV 기술 또한 미세한 공정에 적합한 차세대 기술로, 국내에서 생산하는 블랭크마스크로는 일본의 첨단 제품을 대체할 수 없다는 게 업계 분석이다.

포토리지스트의 경우도 공정 중 종류별로 여러 층이 도포되는데, 핵심층에는 기술적으로 앞선 일본 제품이 사용된다. EUV용 포토리지스트는 일본의 JSR 신에츠 등이 공급하고 있으며 국내 동진쎄미켐 등은 아직 개발 중이다.

업계 관계자는 “삼성전자의 핵심 성장산업 중 하나가 시스템반도체고, 이를 이끄는 기술이 EUV”이라며 “사태가 장기화돼 문제가 생기면 대한민국 반도체의 미래가 멈추는 것”이라고 말했다.

고성수 기자·연합뉴스ssgo@naeil.com

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